193纳米浸没式光刻技术不需要研发新的掩模、透镜和光刻胶材料,而纠正你是我们这些从业者责任。而且电池只有阿斯麦掌握了EUV光刻，全球光刻机绝大数份额是电池日本的佳能跟尼康和美电池国的GCA所占用，
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这与电池光电池刻机密不可分，目前电池国内的最高技术水平就是上海微电子的28nm光刻机，作为半导体行业最重要的生产设备，
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