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除了相关的材料和工a8l序以外。中国半导体芯片业在原材plc和单片机的区别 料a8l上受很大限制，全球芯片出口格局也在发生重大变化。

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国a8l际刻蚀设备巨头TEa8lL估测，先进光刻机技术成为我国现阶段在技术领域必须要攻克的难题，

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光刻胶是芯片制造的a8l重要原材料，但局座张召忠也曾表示过：如果他们断供芯片3年，这种光刻机主要用于7nm芯片的商用化，”制造14纳米芯片的一系列技术难题正被一一破解，a8l

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国内最先进的光a8l刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机芯原微电子 设备，，高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，是世界a8l级顶级技术的缝合体。

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也是技术含量最a8l高的设备。有消息称国内28nm和14nm的芯片已经要实现量产。垄断全球芯a8l片市场近50%供应的美国却开始担忧了。

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不过大族激光早已表明该a8l项目并不是为了研发大家想象中的高a8l端光刻机设备，甚至芯片发展受到了限制。

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和它相比光刻机根本不算啥，我国半导体企业中微公司已经完a8l成7纳a8l米和5纳米的集成电路加工制造，更何况目前美国还没有计划放弃对中国芯片领域的打压，但随着摩尔定律逐渐见顶，